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シミュレーションしたい状況 | 知りたい数値 | シミュレーション結果 | comment |
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コリメータについて | |||
Pbに50MeV電子を打ち込む | e+をおおよそ(何%?)阻止できるPb厚さ | mu+からの散乱e+が空気中で減衰するrate → geometry | |
上に加えてe+に角度をつける | Pbとe+のによって生じる二次粒子(e-, e+, gamma)のエネルギーと個数 | コリメータからのbackground | |
上のような二次粒子を阻止するためのPbの厚さ | 寿命、g-2の測定について | ||
コリメータの穴の大きさと入射粒子数の関係 | ミシェルパラメータについて 必要な粒子数rateは? | ||
シンチレータについて | |||
NaIおよびPSにe+をうち込む | energy-resolutionの大きさと理由 | 後方散乱か横に抜けているか? → NaIとPSを組み合わせる? | |
磁場について | |||
1mmのFeに4MeVのmu+をうちこむ(10/27 tajima) | mu+がとまるかどうか(何%?) | ||
銅板、空芯の状況にうちこむ(11/02) | 同上 | ||
鉄の板を斜めに置き、mu+をうちこむ(11/02) | 対称性が崩れないか |
20cm四方、厚さ24cmのplastic scintillatorに50MeVのe+をうちこんだときに各層で落すエネルギー layer1.pdflayer2.pdflayer3.pdflayer4.pdf total.pdf